नवी दिल्ली : आयआयटी मंडीमधील दोन संशोधकांनी अतिशय कमी किमतीत सौर बॅटरीची निर्मिती करणारे तंत्र विकसित केले आहे. याद्वारे भारताच्या नवीकरणक्षम उर्जेस प्रोत्साहन देण्याच्या धोरणास बळ मिळणार आहे.
सिलिकॉन सोलर सेलमध्ये वापरल्या जाणार्या सेमीकंडक्टरमध्ये निकेल ऑक्साईड महत्त्वाचा असतो. सिलिकॉन सोलर सेल बनवण्यासाठी नॅनो स्केलवर निकेल ऑक्साईड फिल्म तयार करणे आवश्यक आहे, ज्याची जाडी मानवी केसांच्या जाडीच्या दशलक्ष पटीने कमी आहे. अतिशय सुक्ष्म आकारात निकेल ऑक्साईडचा थर विकसित करण्याची प्रक्रिया खूप महाग आहे, कारण त्याच्या उत्पादनात वापरली जाणारी उपकरणे आयात करावी लागतात. थराच्या निर्मितीसाठी जाणारे निकेल अॅसिटिलासेटोनेटही खूप महाग असतात.
अलीकडेच, भारतीय संशोधकांना आधुनिक संरचनेसह सिलिकॉन सोलर सेलमध्ये वापरण्यात येणारा कमी किमतीचा मेटल ऑक्साईड थर विकसित करण्यात यश आले आहे. इंडियन इन्स्टिट्यूट ऑफ टेक्नॉलॉजी (आयआयटी) मंडी येथील संशोधकांनी मेटल ऑक्साईडची पातळ फिल्म्स बनवण्यासाठी कमी खर्चाची प्रक्रिया विकसित केली आहे. या अभ्यासामुळे परवडणाऱ्या सौर बॅटरी विकसित करण्याचा मार्ग मोकळा होणार आहे. सध्याच्या प्रक्रियेत वापरल्या जाणार्या सामग्रीच्या तुलनेत नवीन विकसित तंत्रज्ञानामध्ये वापरलेली सामग्री देखील स्वस्त आहे. यामुळे व्यावसायिक तंत्रज्ञानाची किंमत आणि जटिलता कमी होईल. हे तंत्रज्ञान विकासाच्या सुरुवातीच्या टप्प्यात आहे. आगामी काळात हे तंत्रज्ञान उद्योगांमध्ये देखील स्वीकारले जाऊ शकते.
संशोधक डॉ. कुणाल घोष यांच्या मते, एरोसोल-सहाय्यित रासायनिक वाष्प निक्षेपण (सीव्हीपी) तंत्रज्ञान सिलिकॉनसह विविध पृष्ठभागांवर उच्च-गुणवत्तेच्या पातळ फिल्म तयार करू शकते.यासाठी, एरोसोलच्या स्वरूपात वाष्प अवस्थेतील पूर्ववर्ती सामग्री वापरली जाते. याचा उपयोग साहित्य विज्ञान आणि अभियांत्रिकीमधील विविध अनुप्रयोगांसाठी केला जाऊ शकतो, असेही त्यांनी म्हटले आहे.
भारतीय सौर उद्योगात नवे पर्व
या नव्या संशोधनामध्ये विद्यमान उत्पादन तंत्रांची किंमत आणि जटिलता कमी करण्याची आणि सौर उद्योगात नवीन युग सुरू करण्याची क्षमता आहे. उपकरणांसह संपूर्ण प्रक्रियेचा विकास भारतातच असल्याने हे अत्याधुनिक तंत्रज्ञान सिलिकॉन सोलर क्षेत्रात आत्मनिर्भरता प्राप्त करण्यासाठी देखील योगदान देणार आहे.